EUV Lithografie
Posted Tue 01 Nov 2016 11:05:28 AM CET
Florian Lohoff
Sehr spannender Artikel in Spectrum über EUV Lithografie. 13.5nm Licht zum belichten von Wafern. Bei dieser Wellenlänge absorbieren normale Spiegel alles. Ausserdem geht das nicht durch die Luft. D.h. die Wafer müssen über Luftschleusen in ein Vakuum innerhalb des Belichters.